一、紫外光耐候試驗箱控制和保護系統(tǒng)：

1.  智能型觸摸屏溫控儀，控制精度±0.1℃；

2.  薄膜式 KEY BOARD按鍵；

3.  溫度控制均采用P . I . D ＋S . S . R，系統(tǒng)同頻道協(xié)調控制，可提高控制元件與界面使用之穩(wěn)定性及壽命；

4.  觸控式設定、數(shù)位及直接顯示；

5.  具有P . I . D 自動演算之功能，可減少人為設定時帶來之不便；

6.  光照和冷凝可獨立控制也可以交替循環(huán)控制；

7.  光照和冷凝的獨立控制時間和交替循環(huán)控制的時間可在一千小時內任意設置；

8.  在運轉或設定中，如發(fā)生錯誤時，會提供警示迅號；

9.  法國“施耐德”電氣元器件；

二、紫外光耐候試驗箱溫度控制：  

    UV循環(huán)

     一級的光化學反應對溫度變化并不敏感。然而，隨之而來的二級反應的速度則和溫度變化緊密相關。一般來說，隨著溫度升高，反應速度會加快。因此，在UV曝曬試驗過程中，溫度控制就顯得很重要，更重要的是要將加速試驗所采用的試驗溫度與材料在實際應用中遭遇的高溫度相匹配。在設備中UV的溫度設置可以是從50℃到90℃中的任何一點，具體取決于光照度水平和室內環(huán)境氣溫。設備的溫度調節(jié)是通過具有微電腦演算功能的控制器來指揮設備內諸如空氣加熱器、水加熱器、等一系列系統(tǒng)來完成。

 三、紫外光耐候試驗箱濕氣循環(huán)：

   隨著溫度的提高，潮濕對材料的破壞力會急劇增加。因此在潮濕曝曬過程中，溫度控制是基本的要求。更進一步說，要產(chǎn)生加*果，就要求在潮濕曝曬過程中保持高溫環(huán)境。在設備中冷凝過程溫度設置可以是從40℃到80℃中的任何一點。

四、紫外光耐候試驗箱加熱系統(tǒng)：

1.采用U型鈦合金高速加溫電熱管；

2.溫度控制與光照*獨立系統(tǒng)；

3.溫度控制輸出功率均由微電腦演算，以達及率之用電效益；

4.具有加熱系統(tǒng)的防超溫功能；